哈工大研究团队攻克常温超黑涂层制备技术瓶颈

6月21日，哈工大宣布，哈工大化工与化学学院吴晓红教授团队在超黑涂层技术领域取得重要突破，攻克了常温制备超黑涂层的技术瓶颈，获得了具有显著朗伯特性的高度稳定的超黑涂层。

据第三方权威机构测试，该涂层的广谱吸收高达99.8%，光80入射时总散射积分低至1.5%，可凝性挥发物为0.00%。完全可以满足各种基材、复杂表面、超大面积、极端空间环境的应用需求，性能和技术成熟度均优于国内外同类产品。

据介绍，超黑涂层可以吸收几乎所有照射在上面的光线，应用范围非常广泛。大多数精密光学仪器都需要超黑涂层来屏蔽光学干扰，提高信噪比和探测能力。

20多年来，吴晓红教授团队根据工况条件“量身定制”了一系列适应服役环境的超黑涂层，交付了遮光罩、挡板、光阑、标定黑体等上千种产品，有效提升了我国航天器光学载荷的在轨探测能力和定位精度，为保障载荷全生命周期的高性能稳定运行提供了必要条件。